获得金属膜通常是通过物理蒸发或化学气相沉积的方法。在物理蒸发过程中，金属材料先被加热至高温状态，然后使其蒸发并沉积在基底上形成薄膜。
而在化学气相沉积中，金属材料则是以气体的形式进入反应室，在高温下与基底表面发生化学反应形成薄膜。
无论是哪种方法，都需要严格控制温度、压力和化学成分等参数以确保金属膜的质量和均匀性。
获得金属膜后，它可以应用于工业生产、光学涂层、电子器件等领域。
金属膜可以通过物理气相沉积（PVD）或化学气相沉积（CVD）等方法获得。在PVD方法中，金属材料首先被加热至其熔点以上，然后以高速蒸气的形式沉积在基底表面上；而在CVD方法中，金属材料以气态化合物的形式通过化学反应被沉积在基底表面上。
通常，这些方法可以通过真空蒸发、溅射沉积、化学蒸发和化学气相沉积等技术来实现。金属膜广泛应用于电子、光学、磁性材料等领域，具有优良的导电性、热传导性和光学性能。
